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申请/专利权人：日新电机株式会社
摘要：提供一种可效率良好地向处理室供给自天线产生的高频磁场的等离子体处理装置。等离子体处理装置，使用等离子体对配置于处理室中的被处理物进行真空处理，所述等离子体处理装置包括：容器主体，在形成所述处理室的壁具有开口；金属板，以堵塞所述开口的方式设置，并形成有在厚度方向上贯通的狭缝；电介质板，与所述金属板接触而受到支撑，并自所述处理室的外部侧堵塞所述狭缝；以及天线，以与所述金属板相向的方式设置于所述处理室的外部，并与高频电源连接而产生高频磁场，所述等离子体处理装置满足h‑D2＞0.7h为所述天线的中心轴与所述金属板中的所述天线侧的表面之间的距离mm，D为所述天线的直径mm。
主权项：1.一种等离子体处理装置，使用等离子体对配置于处理室中的被处理物进行真空处理，所述等离子体处理装置包括：容器主体，在形成所述处理室的壁具有开口；金属板，以堵塞所述开口的方式设置，并形成有在厚度方向上贯通的狭缝；电介质板，与所述金属板接触而受到支撑，并自所述处理室的外部侧堵塞所述狭缝；以及天线，以与所述金属板相向的方式设置于所述处理室的外部，并与高频电源连接而产生高频磁场，所述等离子体处理装置满足下述1式及下述2式，h-D2＞0.7mm115mm≧h-D22此处，h为所述天线的中心轴与所述金属板中的所述天线侧的表面之间的距离，单位为mm；D为所述天线的直径，单位为mm。
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