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申请/专利权人：广州粤升半导体设备有限公司
摘要：本实用新型公开了一种外延炉晶圆材料的取放隔离结构，其包括进样腔底座、进样腔上盖和隔离箱，所述进样腔底座设置在所述隔离箱内，所述进样腔上盖盖设在所述进样腔底座上。本实用新型的结构设计合理，通过隔离箱将进样腔底座和进样腔上盖与外界隔离，操作人员将手伸入操作手套便能完成衬底或外延片的取放流程，整体取放流程均是在隔离箱内完成的，有效解决碳化硅外延炉在放片和取片时容易被外界污染物影响的问题，进而保证成品质量。而且在操作前，还可以通过排气孔进行对隔离箱进行抽真空，确保箱内洁净，然后再通过进气口送入清洁惰性气体使得箱内和腔内的气压平衡，以方便操作。另外整体结构简单，可靠性高，成本较低，利于广泛推广应用。
主权项：1.一种外延炉晶圆材料的取放隔离结构，其包括进样腔底座和进样腔上盖，其特征在于，其还包括隔离箱，所述隔离箱至少有一面是透明结构，所述进样腔底座设置在所述隔离箱内，所述进样腔上盖盖设在所述进样腔底座上，所述隔离箱的箱壁上设有能伸入其内的操作手套，所述隔离箱上设有进气口和排气口。
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权利要求：
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