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晶圆清洗装置 

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申请/专利权人:北京晶亦精微科技股份有限公司

摘要:本实用新型提供了一种晶圆清洗装置,包括机架、活动支架和清洗结构。活动支架可移动地设置在机架上,适于相对机架在第一方向和第二方向往复运动。清洗结构包括第一刷体,第一刷体通过第一驱动机构设置在活动支架上,第一驱动机构适于带动第一刷体相对活动支架转动。其中,第一刷体具有朝向晶圆的第一清洁面,第一清洁面的边缘设置有第一凹槽。利用本实用新型提供的晶圆清洁装置可以避免颗粒团聚现象的出现,提高清洁效果,并且第一刷体的结构可以做小,从而能够降低清洁成本。

主权项:1.一种晶圆清洗装置,其特征在于,包括:机架;活动支架,可移动地设置在所述机架上,适于相对所述机架在第一方向和第二方向往复运动;清洗结构,包括第一刷体31,所述第一刷体31通过第一驱动机构设置在所述活动支架上,所述第一驱动机构适于带动所述第一刷体31相对所述活动支架转动;其中,所述第一刷体31具有朝向晶圆的第一清洁面311,所述第一清洁面311的边缘设置有第一凹槽312。

全文数据:

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