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一种用于表面α粒子沾污远程测量装置 

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申请/专利权人:中核四0四有限公司;兰州大学

摘要:本发明涉及核工业技术领域,具体涉及一种用于表面α粒子沾污远程测量装置,所述的测量装置包括聚焦镜头;所述的聚焦镜头包括滤波片、双面凸透镜和单面凸透镜,所述的滤波片、双面凸透镜和单面凸透镜从前往后依次设置,所述的滤波片镶嵌在滤波片前盖,所述的滤波片前盖设置于双面凸透镜前端。所述的用于表面α粒子沾污远程测量装置可以增加进入相机靶面的α诱导辐射荧光的强度,并降低背景光对成像的干扰,增加了表面α粒子沾污远程探测的准确性。本装置对工作环境要求低,可以在日光照射的条件下使用;可探测距离远,最远可达3m;可探测的α粒子最小活度低,最低可做对300Bq活度的α粒子的污染监测。

主权项:1.一种用于表面α粒子沾污远程测量装置,其特征在于,所述的测量装置包括聚焦镜头4;所述的聚焦镜头4包括滤波片1、双面凸透镜2和单面凸透镜3,所述的滤波片1、双面凸透镜2和单面凸透镜3从前往后依次设置,所述的滤波片1镶嵌在滤波片前盖5,所述的滤波片前盖5设置于双面凸透镜2前端。

全文数据:

权利要求:

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