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申请/专利权人：杭州电子科技大学
摘要：本发明公开了一种核壳结构磨料抛光液、制备方法及抛光方法，抛光液包括以下重量百分比的组分：11.93wt％～38.72wt％的核壳结构磨料、1wt％～5wt％的过氧一硫酸钠以及余量为去离子水；核壳结构磨料为以纳米二氧化硅为内核，以MIL‑88AFe为外壳的核壳结构纳米颗粒。本发明的抛光液通过采用以纳米二氧化硅为核，MIL‑88AFe为壳作为磨料，不仅可提升磨料的分散性，同时改善抛光划痕和缺陷，进而可提高抛光效率，经其抛光后的碳化硅表面光滑，无划痕、凹坑等表面缺陷，表面粗糙度低，且本发明的抛光液更加环保安全，具有大规模推广应用的前景。
主权项：1.一种核壳结构磨料抛光液，其特征在于，包括以下重量百分比的组分：11.93wt％～38.72wt％的核壳结构磨料、1wt％～5wt％的过氧一硫酸钠以及余量为去离子水；所述核壳结构磨料为以纳米二氧化硅为内核，以MIL-88AFe为外壳的核壳结构纳米颗粒。
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百度查询： 杭州电子科技大学 一种核壳结构磨料抛光液、制备方法及抛光方法
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