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申请/专利权人：成都高真科技有限公司
摘要：本发明提供了一种CMP工艺抛光台、装置以及工艺方法，所述抛光台表面分为共用旋转轴的一内一外的两个区域，均作为抛光区域，实现不同的抛光特性，两个抛光区域之间具有缝隙。本发明将抛光台分为独立的两个区域，采用不同研磨液使其具有不同的抛光特性，能够有效改进晶圆的散布。
主权项：1.一种CMP工艺抛光台，其特征在于，所述抛光台表面分为共用旋转轴的一内一外的两个区域，均作为抛光区域，实现不同的抛光特性，两个抛光区域之间具有缝隙。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 成都高真科技有限公司 一种CMP工艺抛光台、装置以及工艺方法
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