买专利卖专利找龙图腾,真高效! 查专利查商标用IPTOP,全免费!专利年费监控用IP管家,真方便!
摘要:本发明提供了一种CMP工艺抛光台、装置以及工艺方法,所述抛光台表面分为共用旋转轴的一内一外的两个区域,均作为抛光区域,实现不同的抛光特性,两个抛光区域之间具有缝隙。本发明将抛光台分为独立的两个区域,采用不同研磨液使其具有不同的抛光特性,能够有效改进晶圆的散布。
主权项:1.一种CMP工艺抛光台,其特征在于,所述抛光台表面分为共用旋转轴的一内一外的两个区域,均作为抛光区域,实现不同的抛光特性,两个抛光区域之间具有缝隙。
全文数据:
权利要求:
百度查询: 成都高真科技有限公司 一种CMP工艺抛光台、装置以及工艺方法
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息,力求客观、公正,但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解,仅供参考使用,不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。