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碳化硅衬底及其制造方法 

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申请/专利权人:环球晶圆股份有限公司

摘要:本发明提供一种碳化硅衬底,包括具有第一表面以及相反于第一表面的第二表面的N型碳化硅衬底。N型碳化硅衬底包括半绝缘型碳化硅区以及N型碳化硅区。半绝缘型碳化硅区从第一表面往N型碳化硅衬底内延伸至一深度。半绝缘型碳化硅区包括氮元素以及第一掺杂物。第一掺杂物包括VB族元素、VIIA族元素、氩以及硅中的至少一种。N型碳化硅区相邻于半绝缘型碳化硅区,且包括氮元素。

主权项:1.一种碳化硅衬底,其特征在于,包括:N型碳化硅衬底,具有第一表面以及相反于所述第一表面的第二表面,其中所述N型碳化硅衬底包括:半绝缘型碳化硅区,从所述第一表面往所述N型碳化硅衬底内延伸至一深度,所述半绝缘型碳化硅区包括氮元素以及第一掺杂物,所述第一掺杂物包括VB族元素、VIIA族元素、氩以及硅中的至少一种;以及N型碳化硅区,相邻于所述半绝缘型碳化硅区,且包括氮元素。

全文数据:

权利要求:

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