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在薄膜片材下方的真空吸附平台 

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申请/专利权人:昆山小强电子科技有限公司

摘要:本实用新型涉及薄膜片材加工技术领域,且公开了在薄膜片材下方的真空吸附平台,包括底座,所述底座的内部固定安装有固定块,所述固定块的内部开设有螺孔一,所述底座的内部固定安装有连接槽。隔板,所述隔板的表面开设有螺孔三,所述隔板的上方设有顶板,所述顶板的表面开设有阀芯孔,所述阀芯孔的上方设有胶护垫,所述胶护垫的表面开设有螺孔二,所述螺孔二的内部啮合有M6螺栓。采用上述技术方案的有益效果是:将底座内部的气压进行排除,使底座的内部处于真空状,再对内部进行增压,使在最上方的薄膜与胶护垫完全的相贴合,从而使薄膜片材完全展开,保证在加工时不会发生褶皱的情况。

主权项:1.在薄膜片材下方的真空吸附平台,其特征在于:包括底座,所述底座的内部固定安装有固定块,所述固定块的内部开设有螺孔一,所述底座的内部固定安装有连接槽,所述底座的表面开设有M6螺纹孔,所述连接槽的内部固定安装有抽气管道,所述抽气管道的表面固定安装有密封圈;隔板,所述隔板的表面开设有螺孔三,所述隔板的上方设有顶板,所述顶板的表面开设有阀芯孔,所述阀芯孔的上方设有胶护垫,所述胶护垫的表面开设有螺孔二,所述螺孔二的内部啮合有M6螺栓。

全文数据:

权利要求:

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