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二极管及其制造方法 

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申请/专利权人:杭州士兰集成电路有限公司

摘要:本发明提供了一种二极管及其制造方法,二极管包括:衬底;外延层,位于所述衬底上;第一掺杂区,从所述外延层远离所述衬底的一面延伸至所述外延层内,所述第一掺杂区与所述外延层的掺杂类型相反;第一绝缘介质层,位于所述外延层上,所述第一绝缘介质层中形成有暴露出所述第一掺杂区的第一开口;多晶硅层,位于所述第一开口暴露出的所述第一掺杂区上,所述多晶硅层与所述第一掺杂区的掺杂类型相同;第二掺杂区,从所述多晶硅层远离所述衬底的一面延伸至部分所述多晶硅层中,所述第二掺杂区与所述多晶硅层的掺杂类型相反。本发明使得在降低二极管的电容的同时,还能避免影响二极管的电流导通能力和击穿电压等参数。

主权项:1.一种二极管,其特征在于,包括:衬底;外延层,位于所述衬底上;第一掺杂区,从所述外延层远离所述衬底的一面延伸至所述外延层内,所述第一掺杂区与所述外延层的掺杂类型相反;第一绝缘介质层,位于所述外延层上,所述第一绝缘介质层中形成有暴露出所述第一掺杂区的第一开口;多晶硅层,位于所述第一开口暴露出的所述第一掺杂区上,所述多晶硅层与所述第一掺杂区的掺杂类型相同;第二掺杂区,从所述多晶硅层远离所述衬底的一面延伸至部分所述多晶硅层中,所述第二掺杂区与所述多晶硅层的掺杂类型相反。

全文数据:

权利要求:

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