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减小板级扇出型封装芯片偏移量的凹槽型封装结构及方法 

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申请/专利权人:湖北第二师范学院

摘要:一种利用混合键合技术制备晶圆级系统级封装的结构及方法。该封装结构及方法可以实现CIS芯片与其他种类芯片晶圆级封装。1利用HybridBonding键合技术进行键合,该技术能够实现更高密度触点连接在1×1cm的芯片内,能够制作出超过一百万的触点和更小接点间距连接间距可以微缩到1微米以下。2将CIS芯片与其他种类芯片集成,实现高性能、低功耗、小型化、异质工艺集成、低成本的系统集成电子产品的制备。3整个封装流程为晶圆级封装,封装效率高、成本低、产能大。

主权项:1.一种利用混合键合技术制备晶圆级系统级封装的方法,其特征在于:包括如下步骤:S1,对晶圆级CIS芯片表面进行清洁处理;S2,在晶圆级CIS芯片正面形成粘贴膜层和玻璃层;S3,对晶圆级CIS芯片背面进行减薄处理并形成非键合层;S4,在晶圆级CIS芯片背面形成导电通孔结构;S5,在晶圆级CIS芯片背面形成导电结构;S6,对第二类晶圆级芯片正面进行清洁处理并粘贴保护膜层;S7,对第二类晶圆级芯片背面进行减薄处理并形成非键合层;S8,在第二类晶圆级芯片背面形成导电通孔结构;S9,在第二类晶圆级芯片背面形成导电结构;S10,将晶圆级CIS芯片和第二类晶圆级芯片键合在一起;S11,拆除第二类晶圆级芯片正面保护膜层;S12,在键合后晶圆上形成第一层绝缘层;S13,在键合后晶圆上形成第一层金属重布线层;S14,在键合后晶圆上形成第二层绝缘层;S15,在键合后晶圆上形成第二层金属重布线层;S16,在键合后晶圆第二层金属重布线层上植球;S17,切割得到单颗Die。

全文数据:

权利要求:

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