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申请/专利权人：常州君合科技股份有限公司
摘要：本发明涉及光伏材料制备技术领域，尤其涉及一种单晶硅抛光碱刻蚀添加剂，其各组分的质量百分含量为：维生素E为0.8％～1.5％，碘酸钠为0.4％～2％，葡萄糖酸钠为1％～3％，苹果酸为0.1％～0.2％，聚乙烯吡咯烷酮为0.01％～0.04％，羧甲基纤维素钠0.2％～0.5％，余量为水，本发明中提供了一种碱抛光刻蚀液添加剂，由于在碱抛腐蚀体系中存在同向腐蚀，腐蚀过程会产生张力的影响，张力的影响是固定常数，因此，在反应体系中加入表面活性剂，可以降低界面的表面张力，使润浸角减小，从而提高硅片的润湿性，随着表面活性剂的加入，腐蚀反应所产生的气泡就会更加快速的离开硅片表面，从而使单晶硅表面产生结构更加均匀的腐蚀台阶结构。
主权项：1.一种单晶硅抛光碱刻蚀添加剂，其特征在于，其制备方法包括以下步骤：将质量百分比为0.8%～1.5%的维生素E，0.4%～2%的碘酸钠，1%～3%的葡萄糖酸钠，0.1%～0.2%的苹果酸，0.01%～0.04%的聚乙烯吡咯烷酮，0.2%～0.5%的羧甲基纤维素钠，加入到余量的水中，控制温度105～115℃保温回流18～22小时，然后用氢氧化钾溶液将混合液调整为pH6～8，得到单晶硅抛光碱刻蚀添加剂；所述羧甲基纤维素钠的分子量为400～800。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 常州君合科技股份有限公司 一种单晶硅抛光碱刻蚀添加剂及其应用
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