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申请/专利权人:深圳市纳氟科技有限公司
摘要:本发明涉及覆铜板技术领域,公开了一种球形二氧化硅、聚四氟乙烯薄膜和高频覆铜板及其制备方法。球形二氧化硅的制备方法包括以下步骤:1将阳离子表面活性剂与氢氧化钠溶液混合;2将所得第一溶液与聚四氟乙烯混合,得到第二溶液;3将四乙氧基硅烷和改性剂混合,得到混合溶液;4将混合溶液与第二溶液混合,得到混合液;5将所得混合物进行固液分离,将所得固体进行干燥;6将固体干燥后,对其进行回流萃取。该球形二氧化硅表面的吸附水和极性官能团含量低,分散度高,将其作为填料制得的高频覆铜板的结构均匀,介电常数均匀稳定且介电损耗极低。
主权项:1.一种球形二氧化硅的制备方法,其特征在于,该方法包括以下步骤:1将阳离子表面活性剂与氢氧化钠溶液混合,得到第一溶液;2将聚四氟乙烯与所述第一溶液混合,得到第二溶液;3将四乙氧基硅烷和改性剂混合,得到混合溶液;4在70~90℃的条件下,将所述混合溶液与所述第二溶液混合,然后在温度为20~30℃的条件下搅拌,得到混合物;5将所述混合物进行固液分离,将得到的固体进行真空冷冻干燥;6将步骤5所得固体进行真空干燥,然后回流萃取,接着真空干燥,得到球形二氧化硅;其中,所述改性剂选自3,3,3-三氟丙基三甲氧基硅烷、3,3,3-三氟丙基三乙氧基硅烷、3-氨基丙基三甲氧基硅烷和3-氨基丙基三乙氧基硅烷中的至少一种。
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