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申请/专利权人：ASML荷兰有限公司
摘要：描述了一种确定扫描电子显微镜的视场的畸变的方法。该方法可以包括：提供样本，该样本包括在第一方向上延伸的基本平行的多条线；沿着在扫描方向上延伸的相应的多个扫描轨迹来在样本的视场上执行多个扫描；扫描方向基本垂直于第一方向；检测由样本的扫描引起的样本的响应信号；基于响应信号来确定线的第一线段与该线的第二线段之间的距离，其中第一线段和第二线段中的每个线段与扫描轨迹相交；针对视场内的多个位置执行前一个步骤；以及基于在多个位置处确定的所述距离来确定视场上的畸变。
主权项：1.一种确定扫描电子显微镜的视场的畸变的方法，包括：-提供样本，所述样本包括在第一方向上延伸的多条平行的线；-沿着在扫描方向上延伸的相应的多个扫描轨迹来在所述样本的视场上执行多个扫描；所述扫描方向垂直于所述第一方向；-检测由所述样本的所述扫描引起的所述样本的响应信号；-基于所述响应信号来确定线的第一线段与所述线的第二线段之间的距离，其中所述第一线段和所述第二线段中的每个线段与多个扫描轨迹相交；-针对所述视场内的多个位置执行前一个步骤，以及-基于在所述多个位置处确定的所述距离来确定所述视场上的畸变。
全文数据：
权利要求：
百度查询： ASML荷兰有限公司 检查工具和确定检查工具的畸变的方法
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