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申请/专利权人：天津中环领先材料技术有限公司;中环领先半导体材料有限公司

摘要：一种硅片抛光用暂存放置系统，包括用于放置待抛光硅片的上载暂存机构；用于放置抛光后硅片的下载暂存机构；以及用于驱动上载暂存机构和下载暂存机构旋转，并向置于上载暂存机构或下载暂存机构上硅片的非抛光面进行喷淋的驱动清洗机构；其中，上载暂存机构使硅片的待抛光面被溶液浸润；下载暂存机构使硅片的抛光面被溶液保护且被清洗；上载暂存机构和下载暂存机构绕设于驱动清洗机构设置。本发明同步对多组上载或下载硅片进行稳定暂存放置，不仅使上载硅片的待抛光面完全浸润，亦同时对上载硅片的非抛光面进行保护；而且使下载硅片的抛光面完全处于水液环境中与空气隔绝，也同时对下载硅片的非抛光面上的抛光液和杂质进行清洗去除。

主权项：1.一种硅片抛光用暂存放置系统，其特征在于，包括：用于放置待抛光硅片的上载暂存机构；用于放置抛光后所述硅片的下载暂存机构；以及用于驱动所述上载暂存机构和所述下载暂存机构旋转，并向置于所述上载暂存机构或所述下载暂存机构中的所述硅片的非抛光面进行喷淋的驱动清洗机构；其中，所述上载暂存机构使所述硅片的待抛光面被溶液浸润；所述下载暂存机构使所述硅片的抛光面被溶液保护且被清洗；所述上载暂存机构和所述下载暂存机构绕设于所述驱动清洗机构设置；所述上载暂存机构包括若干相邻而设的上载装置，所述上载装置具有：用于支撑所述硅片的上载支撑组件；和用于浸润所述硅片待抛光面的上载溢流组件；其中，所述上载支撑组件与所述硅片侧壁接触并使所述硅片悬空设置，且所述上载支撑组件可沿其高度方向上下移动；所述上载溢流组件被置于所述上载支撑组件内并与所述上载支撑组件同心设置，所述上载溢流组件与所述硅片待抛光面全接触；所述下载暂存机构包括若干相邻而设的下载装置，所述下载装置具有：存有一定溶液并使溶液缓冲流动的下载放置组件；和用于支撑所述硅片并可上下移动的下载支撑组件；其中，所述下载支撑组件贯穿所述下载放置组件设置；连接所述下载支撑组件中与所述硅片的接触点所围成图形的外接圆与所述硅片同径。

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