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监视化学机械抛光中的抛光垫纹理 

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申请/专利权人:应用材料公司

摘要:一种用于化学机械抛光的设备包含:平台,所述平台具有表面以支撑抛光垫;承载头,所述承载头固持基板抵靠抛光垫的抛光表面;垫调节器,所述垫调节器将研磨主体压靠在抛光表面上;原位抛光垫监视系统,所述原位抛光垫监视系统包含设置在平台上方的成像器以捕获抛光垫的图像;以及控制器,所述控制器被配置成接收来自监视系统的图像并且基于所述图像生成抛光垫表面粗糙度的测量。控制器可使用基于机器学习的图像处理来生成表面粗糙度的测量。

主权项:1.一种用于化学机械抛光的设备,包括:平台,所述平台具有表面以支撑抛光垫;承载头,所述承载头固持基板抵靠所述抛光垫的抛光表面;垫调节器,所述垫调节器将研磨主体压靠在所述抛光表面上;原位抛光垫监视系统,所述原位抛光垫监视系统包含设置在所述平台上方的成像器以捕获所述抛光垫的图像;以及控制器,所述控制器被配置成接收来自所述监视系统的所述图像、接收包含参数的值的其他数据、并且基于所述图像和所述参数的所述值来生成抛光垫表面纹理的测量。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 应用材料公司 监视化学机械抛光中的抛光垫纹理

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