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申请/专利权人:广东中图半导体科技股份有限公司
摘要:本实用新型属于半导体设备技术领域,公开了一种喷嘴装置及刻蚀机。该喷嘴装置包括反应腔和喷嘴组件,反应腔的腔口盖设有石英盖;喷嘴组件穿设于石英盖的中心处,喷嘴组件包括固定环体和滑动环体,固定环体的一端插设于石英盖的圆形凹槽内,滑动环体转动穿设于固定环体内,且滑动环体的一端穿过石英盖伸入反应腔内,滑动环体的该端的外周面沿周向均匀设置有多个石英管,石英管和滑动环体的内腔连通,石英管的周壁设有多个沿轴向间隔分布的出气孔,出气孔朝向反应腔的底壁或侧壁。本实用新型提供的刻蚀机包括上述喷嘴装置,该喷嘴装置能使晶片表面的刻蚀速率更加均匀,并有效减少晶片表面的颗粒数量,提高良率。
主权项:1.喷嘴装置,其特征在于,包括:反应腔100,所述反应腔100的腔口盖设有石英盖200;喷嘴组件300,穿设于所述石英盖200的中心处,所述喷嘴组件300包括固定环体310和滑动环体320,所述固定环体310的一端插设于所述石英盖200的圆形凹槽内,所述滑动环体320转动穿设于所述固定环体310内,且所述滑动环体320的一端穿过所述石英盖200伸入所述反应腔100内,所述滑动环体320的该端的外周面沿周向均匀设置有多个石英管330,所述石英管330和所述滑动环体320的内腔连通,所述石英管330的周壁设有多个沿轴向间隔分布的出气孔331,所述出气孔331朝向所述反应腔100的底壁或侧壁。
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