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摘要：本发明提供了一种碳化硅衬底抛光液常用强氧化剂的清洗方法，属于晶圆强氧化剂清洗的技术领域，包括以下步骤：去除晶圆表面的颗粒物和残留的MnO42‑离子；去除晶圆表面残留的Mn2+以及Na+K+离子；刻蚀晶圆表面的氧化层；对晶圆表面进行干燥。本发明提供的碳化硅衬底抛光液常用强氧化剂的清洗方法，在去除晶圆表面残留的颗粒物的同时，逐步定向清理高锰酸盐分解产生的MnO42‑、Mn2+以及Na+K+离子，并且不引入新的杂质离子，可以有效地清洗抛光后晶圆。
主权项：1.碳化硅衬底抛光液常用强氧化剂的清洗方法，其特征在于，包括以下步骤：去除晶圆表面的颗粒物和残留的MnO42-离子；去除晶圆表面残留的Mn2+以及Na+K+离子；刻蚀晶圆表面的氧化层；以及对晶圆表面进行干燥。
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百度查询： 北京晶亦精微科技股份有限公司 碳化硅衬底抛光液常用强氧化剂的清洗方法
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