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摘要：本发明提供一种应用于CMP设备的EPD装置，包括光源、第一光谱仪、传感器、信号发生器和处理模块，光源产生测量光且光源为闪烁光；当传感器感知到研磨盘的第一旋转位置时，向信号发生器发送开始信号，信号发生器产生光源触发信号，光源点亮，光源触发信号为脉冲序列信号；经过预设延迟时间后，产生光谱仪触发信号，触发第一光谱仪采集测量光谱；处理模块基于测量光谱计算样品上的膜层厚度，根据膜层厚度进行研磨终止检测。本发明考虑了光源触发信号和光谱仪触发信号存在的时间延迟差异，可以保证在一定时间内不会让光源的单次点亮过程偏移至光谱仪的单帧采集时间以外，降低光谱仪采集到错误光谱的可能性，提高终点检测装置的终点判断准确率。
主权项：1.一种应用于CMP设备的EPD装置，其特征在于，包括光源、第一光谱仪、传感器、信号发生器和处理模块，所述光源用于产生测量光，所述光源为闪烁光源；所述传感器基于感知到的研磨盘的第一旋转位置，向所述信号发生器发送开始信号；所述信号发生器基于接收到的开始信号产生光源触发信号，所述光源触发信号用于控制光源点亮，所述光源触发信号为脉冲序列信号；所述信号发生器在产生光源触发信号后经过预设延迟时间时产生光谱仪触发信号，所述光谱仪触发信号用于触发所述第一光谱仪采集测量光谱，所述测量光谱为所述第一光谱仪采集的由所述测量光照射到样品上并经样品反射产生的反射光的光谱；所述处理模块，根据所述测量光谱，计算样品上的膜层厚度，还根据所述膜层厚度发送研磨终止信号，所述研磨终止信号用于控制CMP设备终止研磨所述样品。
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百度查询： 武汉颐光科技有限公司 一种应用于CMP设备的EPD装置
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