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摘要:本发明实施例公开了一种小角度斜坡结构及其制作方法。该方法通过刻蚀待处理基底结构,在待处理基底结构内形成至少一个凹槽,在至少一个凹槽内填充牺牲材料,使至少一个凹槽的表面与待处理基底结构的表面齐平,在待处理基底结构的表面沉积第一薄膜层,刻蚀第一薄膜层,在第一薄膜层上形成开窗,开窗在待处理基底结构的表面的垂直投影位于牺牲材料在待处理基底结构的表面的垂直投影中,通过开窗释放凹槽内填充的牺牲材料,形成与凹槽对应的空腔,在第一薄膜层上沉积第二薄膜层,并填充开窗,形成具有密闭空腔的平面结构,利用气压差挤压平面结构至变形并形成斜坡,实现了可控的小角度斜坡结构,提高斜坡结构的稳定性和生产效率。
主权项:1.一种小角度斜坡结构的制作方法,其特征在于,包括:刻蚀待处理基底结构,在所述待处理基底结构内形成至少一个凹槽;在至少一个所述凹槽内填充牺牲材料,使至少一个所述凹槽的表面与所述待处理基底结构的表面齐平;在所述待处理基底结构的表面沉积第一薄膜层;刻蚀所述第一薄膜层,在所述第一薄膜层上形成开窗,所述开窗在所述待处理基底结构的表面的垂直投影位于所述牺牲材料在所述待处理基底结构的表面的垂直投影中;通过所述开窗释放所述凹槽内填充的牺牲材料,形成与所述凹槽对应的空腔;在所述第一薄膜层上沉积第二薄膜层,并填充所述开窗,形成具有密闭空腔的平面结构;利用气压差挤压所述平面结构至变形并形成斜坡;所述开窗包括多个贯穿所述第一薄膜层的开孔,多个所述开孔呈多行或多列排布或呈圆周排布;所述开孔设置在所述第一薄膜层未呈现斜坡的位置。
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