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摘要：本申请提供一种掩膜版及掩膜版的制备方法。所述掩膜版包括：玻璃基板、掩膜层及半透膜层。掩膜层位于在玻璃基板上，掩膜层在玻璃基板上形成掩膜图案，其中，掩膜图案包括由掩膜本体围合形成的掩膜开口以及位于掩膜开口内的掩膜单元。半透膜层位于玻璃基板设置掩膜层的一侧，半透膜层位于掩膜开口内，半透膜层用于调节掩膜开口处的光透过能量。如此，通过上述掩膜版的结构，可以调整不同区域的曝光能量，能够有效提升多层重布线层RDL的封装边缘能量，进而改善前层钝化层在封装边缘出现变形或者裂纹等情况，而且在一定程度上提升封装基板的排布效率，增强了封装的可靠性和耐用性。
主权项：1.一种掩膜版，其特征在于，所述掩膜版包括：玻璃基板；掩膜层，位于在所述玻璃基板上，所述掩膜层在所述玻璃基板上形成掩膜图案，其中，所述掩膜图案包括由掩膜本体围合形成的掩膜开口以及位于所述掩膜开口内的掩膜单元；半透膜层，位于所述玻璃基板设置所述掩膜层的一侧，所述半透膜层位于所述掩膜开口内，所述半透膜层用于调节所述掩膜开口处的光透过能量。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 成都奕成集成电路有限公司 掩膜版及掩膜版的制备方法
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