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一种高性能RTF铜箔表面处理方法 

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申请/专利权人:安徽华创新材料股份有限公司

摘要:本发明公开了一种高性能RTF铜箔表面处理方法,属于铜箔表面处理技术领域,包括如下步骤:S1、交替电脉冲酸洗;S2、粗化;S3、固化;S4、重复步骤S2‑S3;S5、弱粗化;S6、镀锌镍;S7、防氧化镀;S8、洗净铜箔表面,吹干;压合面喷上硅烷偶联剂液,沥掉表面多余的液,烘干。经过本发明中的方法处理后的RTF铜箔,压合面峰值Rz2.0‑3.0,Tg150树脂体系胶片压板,35μm铜箔的抗剥离强度1.25‑1.5kgfcm,5%盐酸浸泡10min底蚀量≤0.15mm。经线宽纤细蚀刻分析,满足10GHz通频要求。

主权项:1.一种高性能RTF铜箔表面处理方法,其特征在于,包括如下步骤:S1、模拟交替脉冲震荡电源,交替电脉冲酸洗:铜箔接正相,电流密度300-600Am2,温度30-40℃,处理时间3-6秒;S2、粗化:4000-5000Am2镀3秒、3000-4000Am2镀3秒,温度30-45℃;S3、固化:4000-5000Am2镀3秒、4000-5000Am2镀3秒,温度30-45℃;S4、重复步骤S2-S3;S5、弱粗化:1000-2000Am2镀3秒、500-1500Am2镀3秒,温度30-45℃;S6、镀锌镍;S7、防氧化镀;S8、洗净铜箔表面,吹干;压合面喷上硅烷偶联剂液,沥掉表面多余的液,烘干。

全文数据:

权利要求:

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