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申请/专利权人：东京毅力科创株式会社
摘要：本发明提供能够抑制在基片上形成的含金属抗蚀剂膜的变质的基片输送方法和基片输送装置。本发明的基片输送方法包括：待机步骤，在将形成有含金属抗蚀剂膜的基片从第一载置部向第二载置部输送的输送路径中，与所述输送路径中的异常相应地，不将所述基片向所述第二载置部输送，而将所述基片输送到形成有与所述第一载置部的第一气氛不同的第二气氛的待机室以使所述基片在该第二气氛中待机。
主权项：1.一种基片输送方法，其特征在于，包括：待机步骤，在将形成有含金属抗蚀剂膜的基片从第一载置部向第二载置部输送的输送路径中，与所述输送路径中的异常相应地，不将所述基片向所述第二载置部输送，而将所述基片输送到形成有与所述第一载置部的第一气氛不同的第二气氛的待机室以使所述基片在所述第二气氛中待机。
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百度查询： 东京毅力科创株式会社 基片输送方法和基片输送装置
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