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申请/专利权人：株式会社国际电气
摘要：本发明提供一种基板处理装置、半导体装置的制造方法以及记录介质，从而能够提高制程编辑时的作业效率。基板处理装置具备：处理部，其通过具有至少一个定义了基板的处理条件的步骤的制程来处理所述基板；操作部，其接受针对所述处理条件中包含的至少一个设定项目的编辑操作；运算部，其按照编辑操作后的所述处理条件，运算针对所述设定项目的设定值的控制值；以及控制部，其构成为能够控制显示部使得将所述运算部运算出的控制值的时间序列数据与所述步骤的信息一同显示。
主权项：1.一种基板处理装置，其特征在于，具备：处理部，其通过具有至少一个定义了基板的处理条件的步骤的制程来处理所述基板；操作部，其接受针对所述处理条件中包含的至少一个设定项目的编辑操作；运算部，其按照编辑操作后的所述处理条件，运算针对所述设定项目的设定值的控制值；以及控制部，其构成为能够控制显示部使得将所述运算部运算出的控制值的时间序列数据与所述步骤的信息一同显示。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 株式会社国际电气 基板处理装置、半导体装置的制造方法以及记录介质
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