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用于衬底处理系统的基于模型的调度 

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申请/专利权人:朗姆研究公司

摘要:对于蚀刻工具,训练神经网络模型,以预测最佳调度参数值。该模型使用从预防性维护操作、配方时间以及无晶片自动清洁时间所收集的数据作为输入来进行训练。该模型被用于获取调度参数值与各种晶片处理方案之间的基本关系,以作出预测。另外,在用于多个并行材料沉积处理的工具中,基于嵌套神经网络的模型使用机器学习来进行训练。该模型最初是使用模拟数据进行设计及离线训练,接着使用实际工具数据进行在线训练,以预测晶片路线安排途径及调度。该模型改善调度器调整的准确性,并且实现最高工具机群利用率、最短等待时间以及最快产量。

主权项:1.一种用于在工具中处理半导体衬底的系统,所述工具包括被配置成根据配方来处理所述半导体衬底的多个处理室,所述系统包括:处理器;以及存储器,其存储用于由所述处理器执行的指令,其中所述指令配置成:接收来自所述工具的关于根据所述配方处理在所述多个处理室中的所述半导体衬底的第一数据;接收关于所述工具的配置与所述配方的第二数据;使用所述第二数据来模拟用于根据所述配方处理在所述多个处理室中的所述半导体衬底的多个处理方案以及用于所述多个处理方案的调度参数;使用所述多个处理方案以及用于所述多个处理方案的所述调度参数来模拟根据所述配方处理在所述多个处理室中的所述半导体衬底;使用所述第一数据及所述模拟所产生的数据来训练模型,以预测用于根据所述配方处理在所述多个处理室中的所述半导体衬底的最佳调度参数;接收来自所述工具的关于根据所述配方处理在所述多个处理室中的所述半导体衬底中的一者的输入;使用所述模型,基于所述输入来预测用于根据所述配方处理在所述多个处理室中的所述半导体衬底中的所述一者的最佳调度参数;以及基于用于根据所述配方处理在所述多个处理室中的所述半导体衬底中的所述一者的所述最佳调度参数,对所述工具的操作进行调度。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 朗姆研究公司 用于衬底处理系统的基于模型的调度

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