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申请/专利权人：北京北方华创微电子装备有限公司
摘要：本发明提供一种工艺腔室，应用于半导体工艺设备。工艺腔室包括：腔体；多个第一离化组件，多个第一离化组件均设置于腔体的上方且与腔体的内部连通，用于分别离化工艺气体并向腔体内部的不同区域通入离化后的等离子体。本发明的工艺腔室能够调节工艺腔室内的等离子体的分布，以在面对不同工艺腔室上抽气孔位置不同的情况下，都能使工艺腔室内的等离子体均匀分布。本发明还提供一种半导体工艺设备。
主权项：1.一种工艺腔室，应用于半导体工艺设备，其特征在于，所述工艺腔室包括：腔体；多个第一离化组件，多个所述第一离化组件均设置于所述腔体的上方且与所述腔体的内部连通，用于分别离化工艺气体并向所述腔体内部的不同区域通入离化后的等离子体。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 北京北方华创微电子装备有限公司 工艺腔室及半导体工艺设备
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