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申请/专利权人：北京航空航天大学
摘要：本发明提供一种刻蚀终点检测方法及装置，该刻蚀终点检测方法包括：通过电源调制信号对刻蚀电源信号进行调幅得到刻蚀调幅信号；获取光谱仪采集的基于等离子体刻蚀样品生成的光谱信号；其中，等离子体由刻蚀工艺系统基于刻蚀调幅信号加载生成；通过电源调制信号对光谱信号进行混频滤波处理；根据经过混频滤波处理的光谱信号检测刻蚀终点。本发明可以有效检测出不同膜层结构中所含有的元素成分，从而实现高精度的脉冲刻蚀终点检测及控制。
主权项：1.一种刻蚀终点检测方法，其特征在于，包括：通过电源调制信号对刻蚀电源信号进行调幅得到刻蚀调幅信号；获取光谱仪采集的基于等离子体刻蚀样品生成的光谱信号；其中，所述等离子体由刻蚀工艺系统基于所述刻蚀调幅信号加载生成；通过所述电源调制信号对所述光谱信号进行混频滤波处理；具体包括：设电源电压调制频率为ω，其电源调制信号为Vr＝Acosωt+φ，光谱信号是与调制频率同频的信号，设为Vs＝Bcosωt+θ；其中，A是电源调制信号的幅值、B是光谱信号的幅值，ω是角频率，φ是电源调制信号的相位角，θ是光谱信号的相位角；电源调制信号和光谱信号经混频器混频，即两信号值相乘可得：Vp＝Vs+Nt×Vr＝AB2[cosθ-φ+cos2ωt+θ+φ]+Nt×Vr；其中，Nt为噪声信号，Vp为混频器输出的信号；根据经过混频滤波处理的光谱信号检测刻蚀终点。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 北京航空航天大学 刻蚀终点检测方法及装置
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