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申请/专利权人：明德润和半导体设备(天津)有限公司
摘要：本实用新型公开了一种化学气相沉积腔室，涉及半导体技术领域，包括壳体，所述壳体的内部开设有进气腔，所述壳体的内部开设有沉积腔室，所述进气腔的内部固定安装有喷淋头，所述沉积腔室的内部转动连接有支撑柱，所述支撑柱的外侧固定连接有反射板，所述反射板的顶部固定连接有多个环形加热元件，所述支撑柱的外侧且位于反射板的上方固定连接有均热板，所述支撑柱的外侧且位于均热板的上方固定连接有承载板，支撑柱的外侧固定连接有多个侧支撑杆，本实用新型的有益效果为：通过支撑柱、反射板、环形加热元件和均热板的相互配合，可以对承载板进行均匀加热，同时防止承载板与支撑柱接触部位的温度和承载板其他部位的温度温差过大。
主权项：1.一种化学气相沉积腔室，包括壳体1，其特征在于：所述壳体1的内部开设有进气腔3，所述壳体1的内部开设有沉积腔室2，所述进气腔3的内部固定安装有喷淋头4，所述沉积腔室2的内部转动连接有支撑柱5，所述支撑柱5的外侧固定连接有反射板7，所述反射板7的顶部固定连接有多个环形加热元件8，所述支撑柱5的外侧且位于反射板7的上方固定连接有均热板9，所述支撑柱5的外侧且位于均热板9的上方固定连接有承载板10，支撑柱5的外侧固定连接有多个侧支撑杆6，多个所述侧支撑杆6之间固定连接有环形板11，所述环形板11的顶部插接有叠环13。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 明德润和半导体设备(天津)有限公司 一种化学气相沉积腔室
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