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申请/专利权人：DNF有限公司
摘要：本发明提供新型铟化合物、其制造方法、包含其的含铟薄膜沉积用组合物、以及利用其的含铟薄膜的制造方法，如若利用该化合物，则可以以提高的、稳定的沉积速度制造含有均匀成分的高品质的含铟薄膜。
主权项：1.一种由下述化学式1表示的铟化合物：[化学式1] 在所述化学式1中，R1至R8彼此独立地为氢、C1-C7烷基、C2-C7烯基、C2-C7炔基、C6-C12芳基、C6-C12芳基C1-C7烷基、C3-C10环烷基或C1-C7烷氧基。
全文数据：
权利要求：
百度查询： DNF有限公司 铟化合物、包含其的含铟薄膜沉积用组合物、以及含铟薄膜的制造方法
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