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申请/专利权人：湖北星辰技术有限公司
摘要：本申请涉及光刻制程技术领域，具体公开了一种晶圆光掩膜及光刻方法，晶圆光掩膜包括设置在光刻光源投射光线路径上的光掩膜本体，所述光掩膜本体上阵列排布有多个透光区域，每个所述透光区域内设有项目图案；在所述光掩膜本体所在平面上相邻所述透光区域之间留有间距，在相邻所述透光区域之间的间距位置布设有金属遮光结构。本申请能够便于设置较佳的光刻工艺窗口，提升生产良率，缩减生产成本。
主权项：1.一种晶圆光掩膜，其特征在于，包括设置在光刻光源100投射光线105路径上的光掩膜本体101，所述光掩膜本体101上阵列排布有多个透光区域102，每个所述透光区域102内设有项目图案；在所述光掩膜本体101所在平面上相邻所述透光区域102之间留有间距103，在相邻所述透光区域102之间的间距103位置布设有金属遮光结构104。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 湖北星辰技术有限公司 晶圆光掩膜及光刻方法
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