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申请/专利权人：浙江求是半导体设备有限公司
摘要：本实用新型涉及半导体加工技术领域，公开一种喷淋机构及化学气相沉积设备。其中喷淋机构包括上盖组件和喷淋组件。具体地，上盖组件设置有第一进气孔；喷淋组件设置有依次连通的第二进气孔和第一环形槽，喷淋组件还设置有第一气体腔室，第一环形槽环设于第一气体腔室，第一环形槽的内壁沿周向设有多个第三进气孔，第三进气孔一端连通于第一环形槽，另一端连通于第一气体腔室；喷淋组件的喷淋侧安装有多个第一毛细管，第一毛细管连通于第一气体腔室；上盖组件连接于喷淋组件背离第一毛细管的一侧，第一进气孔、第二进气孔、第一环形槽、第三进气孔、第一气体腔室和第一毛细管依次连通形成第一气体通道。
主权项：1.一种喷淋机构，其特征在于，包括：上盖组件1，所述上盖组件1设置有第一进气孔11；喷淋组件2，所述喷淋组件2设置有依次连通的第二进气孔21和第一环形槽22，所述喷淋组件2还设置有第一气体腔室23，所述第一环形槽22环设于所述第一气体腔室23，所述第一环形槽22的内壁沿周向设有多个第三进气孔24，所述第三进气孔24一端连通于所述第一环形槽22，另一端连通于所述第一气体腔室23；所述喷淋组件2的喷淋侧安装有多个第一毛细管3，所述第一毛细管3连通于所述第一气体腔室23；所述上盖组件1连接于所述喷淋组件2背离所述第一毛细管3的一侧，所述第一进气孔11、所述第二进气孔21、所述第一环形槽22、所述第三进气孔24、所述第一气体腔室23和所述第一毛细管3依次连通形成第一气体通道。
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