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一种沉积设备及衬底测速方法 

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申请/专利权人:研微(江苏)半导体科技有限公司

摘要:本发明提供了一种沉积设备及衬底测速方法,沉积设备包括反应腔室和线型激光器;反应腔室包括反应腔,反应腔内可转动设置有托盘组件;线型激光器设置于衬底的上侧,向衬底的边缘和托盘组件发出入射光以形成照射区域,并接收反射光。本发明中的沉积设备通过线型激光器检测衬底转速,可以较为精确地识别到衬底的转动情况,对于不同形状的衬底只要其具有变径段就可以实现检测衬底转速,具有较好的兼容性;本发明的沉积设备无需在相关转动结构上增加其他结构,不会对反应腔室中的热场和流场产生影响,在实现检测衬底转速的同时,保证了外延薄膜的均匀性。

主权项:1.一种沉积设备,其特征在于,包括反应腔室和线型激光器;所述反应腔室包括反应腔,所述反应腔内可转动设置有托盘组件以带动衬底转动,所述衬底的边缘包括圆弧段和与所述圆弧段的半径不相等的变径段;所述线型激光器设置于所述衬底的上侧,所述线型激光器向所述衬底的边缘和所述托盘组件发出入射光以形成照射区域,并接收反射光,所述照射区域至所述衬底转动中心的最大距离大于所述变径段的最小半径,所述照射区域至所述衬底转动中心的最小距离小于所述圆弧段的半径。

全文数据:

权利要求:

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