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半导体装置 

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申请/专利权人:英诺赛科(珠海)科技有限公司

摘要:半导体装置,涉及半导体器件设计制造领域,装置包括位于沟道层上的势叠层;位于势叠层上的源级、漏级及栅级,P型Ⅲ‑Ⅴ族化合物半导体层位于所述势垒层上,位于P型Ⅲ‑Ⅴ族化合物半导体层上的叠层由n个Ⅲ‑Ⅴ族化合物半导体层和n个Ⅲ‑Ⅴ族化合物半导体氧化层交叉堆叠而成,其中n=1,2,3。半导体装置具有栅极耐压大幅提高,可靠性好的优点。

主权项:1.半导体装置,包括:一沟道层;一势垒层,位于所述沟道层上;一源极、一漏极及一栅极,均位于所述势垒层上,且所述源极和所述漏极分别位于所述栅极两侧;其特征在于:所述栅极结构如下一P型Ⅲ-Ⅴ族化合物半导体层,位于所述势垒层上;一位于所述P型Ⅲ-Ⅴ族化合物半导体层上的叠层,所述叠层由n个Ⅲ-Ⅴ族化合物半导体层和n个Ⅲ-Ⅴ族化合物半导体氧化层交叉堆叠而成,其中n=1,2,3;一顶部金属,所述顶部金属位于所述叠层上。

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