Document
拖动滑块完成拼图
首页 专利交易 科技果 科技人才 科技服务 国际服务 商标交易 会员权益 IP管家助手 需求市场 关于龙图腾
 /  免费注册
到顶部 到底部
清空 搜索

在具有沟的基板上制造氮化硅质膜的方法 

买专利卖专利找龙图腾,真高效! 查专利查商标用IPTOP,全免费!专利年费监控用IP管家,真方便!

摘要:一种在具有沟的基板上制造氮化硅质膜的方法,其包括以下工序:a在具有沟的基板上施用氮化硅质组合物,以形成组合物层;b对该组合物层照射波长200~229nm的光;以及c在非氧化气氛中加热该基板;其中该氮化硅质膜对波长633nm的光的折射率为1.70~2.40。

主权项:1.一种在具有沟的基板上制造氮化硅质膜的方法,其包括以下工序:a在具有沟的基板上施用氮化硅质组合物,以形成组合物层;b对该组合物层照射波长200~229nm的光;及c在非氧化气氛中加热该基板,其中,该氮化硅质膜对波长633nm的光的折射率为1.70~2.40。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 默克专利有限公司 在具有沟的基板上制造氮化硅质膜的方法

免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息,力求客观、公正,但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解,仅供参考使用,不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。