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摘要:一种在具有沟的基板上制造氮化硅质膜的方法,其包括以下工序:a在具有沟的基板上施用氮化硅质组合物,以形成组合物层;b对该组合物层照射波长200~229nm的光;以及c在非氧化气氛中加热该基板;其中该氮化硅质膜对波长633nm的光的折射率为1.70~2.40。
主权项:1.一种在具有沟的基板上制造氮化硅质膜的方法,其包括以下工序:a在具有沟的基板上施用氮化硅质组合物,以形成组合物层;b对该组合物层照射波长200~229nm的光;及c在非氧化气氛中加热该基板,其中,该氮化硅质膜对波长633nm的光的折射率为1.70~2.40。
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