龙图腾网&IPTOP
- 微信扫码登录
- 账号密码登录
- 短信登录/注册
买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！
摘要：本发明提供了一种提高腐蚀硅片表面洁净度的洗净方法及硅片，包括：步骤S1：使用低浓度且浓度满足预设要求的TMAH有机溶液去除从酸腐蚀液中取出的硅片表面的酸液以及硅片表面的杂质；步骤S2：使用去离子水冲洗；步骤S3：使用低浓度且浓度满足预设要求的HF溶液清洗，去除硅片表面金属；步骤S4：使用去离子水冲洗；步骤S5：使用低浓度且浓度满足预设要求的碱溶液进行清洗；步骤S6：使用低浓度且浓度满足预设要求的表面活性剂溶液进行清洗；步骤S7：使用去离子水冲洗；步骤S8：使用低浓度且浓度满足预设要求的HF溶液进行清洗，去除硅片表面金属；步骤S9：使用去离子水冲洗。
主权项：1.一种提高腐蚀硅片表面洁净度的洗净方法，其特征在于，包括：步骤S1：使用低浓度且浓度满足预设要求的TMAH有机溶液去除从酸腐蚀液中取出的硅片表面的酸液以及硅片表面的杂质；步骤S2：使用去离子水冲洗；步骤S3：使用低浓度且浓度满足预设要求的HF溶液清洗，去除硅片表面金属；步骤S4：使用去离子水冲洗；步骤S5：使用低浓度且浓度满足预设要求的碱溶液进行清洗；步骤S6：使用低浓度且浓度满足预设要求的表面活性剂溶液进行清洗；步骤S7：使用去离子水冲洗；步骤S8：使用低浓度且浓度满足预设要求的HF溶液进行清洗，去除硅片表面金属；步骤S9：使用去离子水冲洗。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 上海中欣晶圆半导体科技有限公司 提高腐蚀硅片表面洁净度的洗净方法及硅片
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
主营中国专利交易买卖与专利转让许可,高校科技成果推广与科技成果转化,知识产权运营管理与平台开发,科技人才专家库与科技猎头等科技服务
开放平台
担保交易
惠及多方
会员特惠
专属平台
适合多方
数据共享
功能齐全
皖公网安备 34010402703815号