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摘要：本发明涉及含硅的抗蚀剂下层膜形成用组成物以及图案形成方法。本发明的目的是提供于多层抗蚀剂法中，抑制超微细图案崩塌的效果高，可形成图案形状良好的抗蚀剂图案的含硅的抗蚀剂下层膜。一种含硅的抗蚀剂下层膜形成用组成物，其特征为含有：下列通式A‑1表示的化合物及热交联性聚硅氧烷。[化1]R1表示甲基、乙基、丙基、烯丙基、炔丙基，R2表示氢原子、乙酰基、丙烯酰基、甲基丙烯酰基、苯甲酰基、萘甲酰基、蒽甲酰基，R3表示甲基、乙基、丙基、烯丙基、炔丙基、或下列通式A‑2表示的基团。[化2]虚线表示原子键，R1、R2与前述相同。
主权项：1.一种含硅的抗蚀剂下层膜形成用组成物，其特征为含有：下列通式A-1表示的化合物及热交联性聚硅氧烷； R1表示烯丙基或炔丙基，R2表示氢原子、乙酰基、丙烯酰基、甲基丙烯酰基、苯甲酰基、萘甲酰基、蒽甲酰基，R3表示甲基、乙基、丙基、烯丙基、炔丙基、或下列通式A-2表示的基团； 虚线表示原子键，R1、R2与前述相同。
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百度查询： 信越化学工业株式会社 含硅的抗蚀剂下层膜形成用组成物以及图案形成方法
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