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摘要：本发明提供一种沉积方法，其中一施体基板10与一目标基板20相对而配置，该施体基板具有一表面12，而该表面12系面对该目标基板且具备一黏性施体材料14。一光束30经由该施体基板被导引至该施体材料，以便释放该施体材料且借此朝向该目标基板传送该施体材料作为一喷射。在本文所提供之方法中，一输入信号DS被接收，该输入信号DS指定了该喷射待呈现之一形状，借由该喷射，该施体材料可被传送且该光束之一能量曲线分布相应地得到控制。另外或替代地，该光束之该能量曲线分布可根据一图案得到控制，该施体材料将根据该图案沉积于该目标基板上。同样地，本发明提供一相应之沉积设备。

主权项：1.一种沉积设备100，其将来自一施体基板10之一施体表面12的具有黏性性质之施体材料14沉积于一目标基板20的一目标表面22上，该设备包含：携载该目标基板20之一目标基板载体120及携载该施体基板10之一施体基板载体110，该施体基板10与该目标基板20相对而该施体表面12及该目标表面22彼此面对；一光束产生器130，其产生一光束30，该光束30将被导引通过该施体基板10朝向该施体材料14，该光束具有一光轴32，该光轴32在该目标表面22中具有一交点34；一定位装置150，其控制该交点34之一位置；一控制器160，其控制该光束产生器130之操作，且控制该定位装置150，其中在该沉积设备100之一操作状态中，该控制器160经组配来接收规格数据DS，而该规格数据DS指定了施体材料在该目标表面22上之一所要空间分布，其中该控制器160产生一位置控制信号S140，S150以控制该定位装置，及产生一射束产生器控制信号S130以根据该所要空间分布去控制该光束产生器之操作，且其中该光束产生器130回应于该射束产生器控制信号而产生该光束30，以使施体材料自该施体表面12朝向该目标表面22上之取决于该位置控制信号S140，S150的一位置传送；其中该光束产生器130经进一步组配来以一可控制之空间能量分布去产生该光束30以射出施体材料的一部分，且其中该控制器160经组配来根据所接收之该规格数据DS去产生该射束产生器控制信号S130以控制该空间能量分布，其特征在于，该光束产生器130经组配来产生一光束，而该光束导致该施体材料之一传送作为一喷射，该控制器160经组配来根据该规格数据而以该喷射待呈现之一形状为基础，来控制该光束产生器130以产生出具有一实质上非对称空间分布的该光束。

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百度查询： 荷兰应用科学研究会(TNO) 雷射引发前向传送(LIFT)沉积设备及方法