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一种用于清洗晶圆吸盘的溢流治具 

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申请/专利权人:江苏凯威特斯半导体科技有限公司

摘要:本实用新型公开了一种用于清洗晶圆吸盘的溢流治具,包括:顶盖和桶体;顶盖相适应的盖在桶体上,顶盖上设置有进水管;桶体上由上至下依次设置有水样测试口和出水口,出水口上设置有离心泵;桶体内侧设置有产品固定板和刻度线,产品固定板位于水样检测口与顶盖之间,刻度线位于产品固定板与顶盖之间;产品固定板上设置有产品固定位,晶圆吸盘相适应的放置在产品固定位上,在晶圆吸盘与产品固定板之间设置有密封圈。该装置上部有一个进水口底部有一个出水口,水流从上而下经过晶圆吸盘渗透下去冲洗间隙,冲洗过的水直接从出水口流出;在整个清洗过程中无需使用大量的人工,不仅省时省力而且可有效避免在冲洗过程中发生二次污染。

主权项:1.一种用于清洗晶圆吸盘的溢流治具,其特征在于,包括:顶盖1和桶体2,所述顶盖1相适应的盖在所述桶体2上,所述顶盖1上设置有进水管4;所述桶体2上由上至下依次设置有水样测试口5和出水口6,所述出水口6上设置有离心泵7;所述桶体2内侧设置有产品固定板8和刻度线9,所述产品固定板8位于所述水样测试口5与所述顶盖1之间,所述刻度线9位于所述产品固定板8与所述顶盖1之间;所述产品固定板8上设置有产品固定位10,所述产品固定位10与晶圆吸盘3相适应设置,在所述晶圆吸盘3与所述产品固定板8之间设置有密封圈11。

全文数据:

权利要求:

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