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申请/专利权人：朗姆研究公司
摘要：一种处理衬底的方法包含：a将衬底传送至处理室的静电卡盘ESC的基座；b将所述处理室中的压强增加到在第一预定压强范围内的第一预定压强；c在不夹持所述衬底的情况下，在所述第一预定压强下将所述衬底浸泡第一预定时间；d在所述第一预定时间后，在第二预定时间期间内将提供给所述ESC的夹持电压增加至第一夹持电压；e在所述第二预定时间后，将所述处理室中的所述压强增加至大于所述第一预定压强的预定处理压强；以及f在所述预定处理压强下，对所述衬底进行处理。
主权项：1.一种处理衬底的方法，其包含：a将衬底传送至处理室的静电卡盘ESC的基座；b将所述处理室中的压强增加到在第一预定压强范围内的第一预定压强；c在不夹持所述衬底的情况下，在所述第一预定压强下将所述衬底浸泡第一预定时间；d在所述第一预定时间后，在第二预定时间期间内将提供给所述ESC的夹持电压渐增至第一夹持电压；e在所述第二预定时间后，将所述处理室中的所述压强增加至大于所述第一预定压强的预定处理压强；以及f在所述预定处理压强下，对所述衬底进行处理。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 朗姆研究公司 用于高弯曲衬底的浸泡和ESC夹持序列
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