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申请/专利权人：中国科学院近代物理研究所
摘要：本发明公开了一种用于Nb3Sn薄膜的纳米级微量可控化学表面精细剥蚀方法。所述方法包括如下步骤：S1、采用锡蒸汽扩散法在衬底铌表面生长Nb3Sn薄膜；S2、去除Nb3Sn薄膜表面存在的杂质后，置于酸液中进行氧化；S3、将氧化后的Nb3Sn薄膜超声清洗并干燥，然后置于氢氟酸中以对Nb3Sn薄膜表面的氧化层进行溶解；S4、将溶解后的Nb3Sn薄膜超声清洗并干燥；S5、重复步骤S2‑S4。本发明通过氧化和溶解相结合的方式可实现对Nb3Sn薄膜极表层数十纳米的均匀剥蚀，不仅可以有效去除薄膜表面残留的纳米级锡滴，同时对Nb3SnSn滴界面处的富锡相如Nb6Sn5和NbSn2也可有效剥离。此外，该发明对表面残留有机污染物的去除效果也十分明显。
主权项：1.一种Nb3Sn薄膜表面微量可控剥蚀方法，包括如下步骤：S1、采用锡蒸汽扩散法在衬底铌表面生长Nb3Sn薄膜；S2、去除所述Nb3Sn薄膜表面存在的杂质后，置于酸液中进行氧化；S3、将氧化后的所述Nb3Sn薄膜超声清洗并干燥，然后置于氢氟酸中以对所述Nb3Sn薄膜表面的氧化层进行溶解；S4、将溶解后的所述Nb3Sn薄膜超声清洗并干燥；S5、重复步骤S2-S4。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 中国科学院近代物理研究所 一种用于Nb3Sn薄膜的纳米级微量可控化学表面精细剥蚀方法
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