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申请/专利权人：西安微电子技术研究所
摘要：本发明公开一种NiTiAl复合金属晶圆及其制备方法，该方法首先利用酸性腐蚀液A对于晶圆表面的Al层进行腐蚀，该酸性腐蚀液A不会影响下层金属，然后利用质量浓度为1.5％～5％的氢氟酸对Ti层进行腐蚀，该氢氟酸溶液不会使下层金属被腐蚀，同时也不会使下层金属翘起脱落，最后，采用三氯化铁溶液对最底层的Ni层进行腐蚀，腐蚀过程中，三氯化铁与Ni反应，溶液中的三价铁离子还原成二价铁离子，金属Ni生产Ni离子。该方法通过层层腐蚀的工艺，有效每一层的腐蚀效果，控制了每一层金属腐蚀后的形貌，使得NiTiAI三层金属具有良好的腐蚀形貌。
主权项：1.一种NiTiAl复合金属晶圆的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：S1：对沉积有NiTiAl的晶圆进行金属Al光刻，并采用酸性腐蚀液A进行腐蚀，得到第一晶圆；S2：对所述第一晶圆依次进行金属NiTi光刻，并采用氢氟酸进行对Ti层进行腐蚀，得到第二晶圆；所述氢氟酸的质量浓度为1.5％～5％；S3：采用三氯化铁溶液对所述第二晶圆上的Ni层进行腐蚀，去胶后，制得所述NiTiAl复合金属晶圆。
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权利要求：
百度查询： 西安微电子技术研究所 一种NiTiAl复合金属晶圆及其制备方法
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