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一种高可控性纳米压印晶圆热处理监测方法 

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申请/专利权人:青岛天仁微纳科技有限责任公司

摘要:本发明公开了一种高可控性纳米压印晶圆热处理监测方法,属于热处理监测技术领域,包括以下步骤:S1、在模板的目标图形与纳米压印晶圆的热处理过程中,采集晶圆的实时温度;S2、生成晶圆的温度码;S3、确定热处理过程是否存在加工异常。本发明为实时监测的晶圆温度构建二维温度向量和三维温度向量,生成特定温度码,再结合整个时刻的温度中位数,确定热处理过程中是否存在温度异常;本发明可以显著提高纳米压印晶圆热处理过程的可控性和稳定性,提高了温度检测的灵敏度和准确性,避免出现加工失误。

主权项:1.一种高可控性纳米压印晶圆热处理监测方法,其特征在于,包括以下步骤:S1、在模板的目标图形与纳米压印晶圆的热处理过程中,采集晶圆的实时温度;S2、根据晶圆的实时温度,为每个时刻构建三维温度向量和二维温度向量,生成晶圆的温度码;S3、根据晶圆的温度码,确定热处理过程是否存在加工异常。

全文数据:

权利要求:

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