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申请/专利权人：ASMIP私人控股有限公司
摘要：本文公开了一种半导体处理设备，该半导体处理设备包括歧管，该歧管包括配置为将气体输送到反应室的孔，歧管包括安装到第二块体的第一块体，第一和第二安装的块体协作以至少部分地限定孔。歧管还可以包括围绕第一块体或第二块体设置的绝热体盖。半导体处理设备可以包括安装到第二块体的至少三个阀块体，从而防止前体回流。加热器棒可以穿过第二块体延伸到邻近第一块体的位置。
主权项：1.一种半导体处理设备，其特征在于，包括：歧管，包括：配置成将气体输送到反应室的孔；安装到第二块体的第一块体，第一和第二块体协作以至少部分地限定孔；供应通道，其提供气体源和孔之间的流体连通，供应通道至少部分地设置在第二块体中；以及位于歧管的下部并与孔连通的出口；和围绕第一块体设置的绝热体盖，该绝热体盖包括绝热材料。
全文数据：
权利要求：
百度查询： ASMIP私人控股有限公司 半导体处理设备
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