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申请/专利权人：吉佳蓝科技股份有限公司
摘要：本发明涉及一种基板处理装置，其特征在于，包括：腔室，在内部具备通过等离子体处理基板的处理空间；安放部，安放基板，安放部配置于所述处理空间；器皿部，在所述处理空间中，配置于比所述安放部靠上侧的位置，并具备贯通口以将等离子体朝向安放于所述安放部的所述基板引导；以及驱动部，用于驱动所述器皿部，所述器皿部被所述驱动部驱动，从能够上下移动以调节与所述安放部的间距。
主权项：1.一种基板处理装置，其特征在于，包括：腔室，在内部具备通过等离子体处理基板的处理空间；安放部，安放基板，并配置于所述处理空间；器皿部，在所述处理空间中配置于比所述安放部靠上侧的位置，并具备贯通口以将所述等离子体朝向安放于所述安放部的所述基板引导；以及驱动部，用于驱动所述器皿部，所述器皿部形成为被所述驱动部驱动而能够上下移动以调节与所述安放部的间距，所述腔室包括：引导槽，在所述腔室的外壁的下部中沿着圆周方向以环状向内侧凹陷，所述器皿部包括：器皿部件，形成有所述贯通口；以及盖部件，从所述器皿部件向上侧凸出，并沿着圆周方向延伸，并且所述盖部件的至少一部分以能够收容地插入到在所述腔室的外壁形成的所述引导槽，所述盖部件通过所述器皿部的升降来调节插入到所述引导槽的深度。
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百度查询： 吉佳蓝科技股份有限公司 基板处理装置
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