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一种用于散射阵列的目标阵元RCS提取方法 

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申请/专利权人:中国电子科技集团公司第三十六研究所

摘要:本发明涉及一种用于散射阵列的目标阵元RCS提取方法,属于电磁散射计算技术领域,解决了现有技术中不能直接提取散射阵列中目标阵元RCS的问题。所述目标阵元RCS提取方法包括:根据目标二维投影区域和目标阵元的最大尺寸确定探测源对应的虚拟口径面;在虚拟口径面上生成射线管,利用射线管模拟探测源对目标阵元的探测;在散射阵列内,对各射线管的射线进行路径追踪和场强追踪,直至满足预设的追踪终止条件;根据每个射线管的路径追踪结果,结合预设的有效性判断条件对每个射线管的有效性进行判断,从射线管中筛选得到有效射线管;根据有效射线管的场强追踪结果确定目标阵元RCS。实现了直接从散射阵列中提取目标阵元RCS。

主权项:1.一种用于散射阵列的目标阵元RCS提取方法,其特征在于,所述目标阵元RCS提取方法包括:根据探测源的入射方向和全局坐标系构建投影坐标系,确定目标阵元在投影坐标系的目标二维投影区域;根据目标二维投影区域和目标阵元的最大尺寸确定探测源对应的虚拟口径面;在虚拟口径面上生成射线管,利用射线管模拟探测源对目标阵元的探测;在散射阵列内,对各射线管的射线进行路径追踪和场强追踪,直至满足预设的追踪终止条件;根据每个射线管的路径追踪结果,结合预设的有效性判断条件对每个射线管的有效性进行判断,从射线管中筛选得到有效射线管;根据有效射线管的场强追踪结果确定目标阵元RCS。

全文数据:

权利要求:

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