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外延片表面预处理装置及处理方法 

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申请/专利权人:浙江丽水中欣晶圆半导体科技有限公司

摘要:本发明公开了外延片表面预处理装置及处理方法,涉及到外延片生产设备技术领域,包括主体,所述主体的顶部依次开设有一级清洗池、二级清洗池和三级清洗池,还包括:放置架,其能够收纳放置多个外延片并通过机械臂将外延片依次放入一级清洗池、二级清洗池和三级清洗池内进行清洗。本发明还公开了外延片表面预处理方法,包括以下步骤:一级清洗、二级清洗、三级清洗和干燥。本发明通过浮漂在浮力作用下带动压板压在外延片圆周上,避免了外延片在浸泡过程中发生漂浮的问题,通过喷淋孔处于靠近对应外延片圆周的位置处,去离子水通过第一斜孔和第二斜孔以倾斜的方式向外延片两侧喷淋,增加对外延片的喷淋覆盖面,提高对外延片的清洗效果。

主权项:1.外延片表面预处理装置,包括主体(1),所述主体(1)的顶部依次开设有一级清洗池(2)、二级清洗池(3)和三级清洗池(4),其特征在于,还包括:放置架(5),其能够收纳放置多个外延片(6)并通过机械臂将外延片(6)依次放入一级清洗池(2)、二级清洗池(3)和三级清洗池(4)内进行清洗;压紧组件(7),其转动设置于所述放置架(5)的顶部两侧,所述压紧组件(7)能够将外延片(6)限制在所述放置架(5)的内部;喷淋组件(8),其固定设置于所述放置架(5)的顶部两侧,所述喷淋组件(8)与同侧的所述压紧组件(7)相互配合,能够对外延片(6)的侧面进行全面喷淋;驱动组件(9),其设置于所述主体(1)的内部,且贯穿至所述三级清洗池(4)的内部,所述驱动组件(9)能够驱动外延片(6)在放置架(5)的内部转动;循环池(10),其开设于主体(1)的内部,且位于所述三级清洗池(4)的下方,所述循环池(10)用于容纳从三级清洗池(4)内排出的液体;泵液组件(11),其设置于所述循环池(10)的内部,且与两组所述喷淋组件(8)相连通,能够对两组所述喷淋组件(8)进行供液。

全文数据:

权利要求:

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