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嵌入式芯片封装工艺及嵌入式芯片 

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申请/专利权人:江苏尊阳电子科技有限公司

摘要:本发明涉及嵌入式芯片封装工艺及嵌入式芯片,选用芯片框架,在线路层上安装第一芯片的裸片,并塑封;然后在芯片框架的背面进行蚀刻,并将金属基板蚀刻出嵌装区,在其中装入第二芯片,进行背面塑封;最后将背面塑封层进行打磨,将金属基板背面裸露出来;切割分离形成本发明的嵌入式芯片。本发明针对改进的嵌入式封装的芯片结构,提供了一种技术路线成熟的生产工艺,能够高效率、高质量的制成嵌入式芯片,从而降低了生产成本,且提高了产品的散热效果,并提升了信号传输效率。

主权项:1.嵌入式芯片封装工艺,其特征在于,包括如下步骤:步骤A、金属基板正面装片和球焊:取成品芯片框架,在芯片框架的线路层的基岛区域,通过粘合剂装片,装上第一芯片,所述第一芯片为裸片;然后进行球焊制程,通过内部引线将第一芯片与外围的引脚连接在一起;步骤B、正面塑封:在芯片框架的第一芯片安装面进行第一次塑封制程,形成正面塑封层;步骤C、再贴光阻膜:在步骤B完成的产品表面再贴上曝光显影的光阻膜;步骤D、芯片框架的背面去除部分光阻膜:利用曝光显影设备将步骤C完成贴光阻膜作业的芯片框架的背面进行图形曝光、显影,去除部分图形光阻膜,以露出芯片框架的背面后续需要进行蚀刻的区域;步骤E、蚀刻:在步骤D中芯片框架的背面去除部分光阻膜的区域进行化学蚀刻,刻蚀进入芯片框架的金属基板内,直到正面表面附近,形成嵌装区;步骤F、去除光阻膜:冲洗去除光阻膜,露出芯片框架;步骤G、SMT贴元器件:在背面蚀刻区域通过SMT制程进行元器件贴装装片,即将第二芯片组装进嵌装区;步骤H、背面塑封:在蚀刻区域进行塑封,将元器件保护起来,形成背面塑封层;然后进行打磨,将芯片框架的背面金属裸露出来;步骤I、切割分离:在产品之间进行切割分离,保留需要的封装体作为成品,即为嵌入式芯片;上述步骤E的蚀刻为,先在步骤C所用的光阻膜上设计出需求形状;然后在步骤E中,采取化学蚀刻去除背面非有效区域金属层;通过药水浓度和时间参数控制蚀刻速度和深度,确保预留正面金属层可满足后面的焊接厚度要求;同时,将原本一体的金属层,通过贴膜设计蚀刻断开,形成功能输出端子的隔离。

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