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化学机械抛光的光学终点检测方法及相关设备 

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申请/专利权人:江苏元夫半导体科技有限公司

摘要:本申请实施例公开了一种化学机械抛光的光学终点检测方法及相关设备,该方法包括:在化学机械抛光过程中,获取采集的反射相干光谱数据,并根据反射相干光谱数据得到反射相干光谱曲线;在反射相干光谱曲线上选取一段波长区域,在该段波长区域内,标定反射相干光谱曲线的特征极值,以及获取目标相干级数;对比目标相干级数与预设的标准终点光谱曲线的标准相干级数是否相等;若两者相等,获取反射相干光谱曲线与标准终点光谱曲线的差异,根据差异进行光学终点检测;本申请能够准确快速分析出是否真正到达抛光终点,不会受到电源电压波动、温度变化等因素的影响,检测精确度较高、检测效率高。

主权项:1.一种化学机械抛光的光学终点检测方法,其特征在于,所述方法包括:在化学机械抛光过程中,获取采集的反射相干光谱数据,并根据所述反射相干光谱数据得到反射相干光谱曲线;在所述反射相干光谱曲线上选取一段波长区域,在所述一段波长区域内,标定所述反射相干光谱曲线的特征极值,以及获取目标相干级数,所述特征极值指示所述反射相干光谱曲线的干涉波峰和干涉波谷,所述目标相干级数为所述一段波长区域内的最高相干级数;对比所述目标相干级数与预设的标准终点光谱曲线的标准相干级数是否相等,所述标准相干级数为所述标准终点光谱曲线在所述一段波长区域内的最高相干级数;若两者相等,获取所述反射相干光谱曲线与所述标准终点光谱曲线的差异,根据所述差异进行光学终点检测;所述获取目标相干级数,包括:在所述一段波长区域内标定的特征极值中,确定至少两个特征极值;根据所述至少两个特征极值分别对应的波长,获取所述目标相干级数;所述根据所述差异进行光学终点检测,包括:若所述差异满足预设条件,停止化学机械抛光。

全文数据:

权利要求:

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