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一种光电子器件表面缺陷视觉检测方法及系统 

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申请/专利权人:常熟理工学院;苏州新吴光电股份有限公司

摘要:本发明涉及图像分割处理技术领域,具体涉及一种光电子器件表面缺陷视觉检测方法及系统。本发明首先获取光电子器件表面的灰度图像的初始缺陷区域;进一步获取第一缺陷可能性并筛选出疑似缺陷区域;进一步获取第二缺陷可能性并筛选出待分析缺陷区域;进一步获取待分析缺陷区域的每个边缘像素点的灰度变化参数;进一步逐步加入像素点形成修正缺陷区域并获取第三缺陷可能性,最后基于第三缺陷可能性对待分析缺陷区域进行扩展,获得最终缺陷区域。本发明通过分析阈值分割获得的初始缺陷区域的灰度变化特征以及边缘粗糙程度,排除非缺陷区域干扰,又通过对待分析缺陷区域进行自适应扩展,最终获得准确的缺陷区域,提高视觉检测结果的可信度。

主权项:1.一种光电子器件表面缺陷视觉检测方法,其特征在于,所述方法包括:获取光电子器件表面的灰度图像;对所述灰度图像进行分割,获得初始缺陷区域;根据所述初始缺陷区域中每个像素点的局部灰度差异,结合不同所述初始缺陷区域中整体灰度特征的差异,获取每个所述初始缺陷区域的第一缺陷可能性;基于所述第一缺陷可能性筛选出疑似缺陷区域;根据所述疑似缺陷区域的边缘粗糙程度,获取每个所述疑似缺陷区域的第二缺陷可能性;基于所述第二缺陷可能性筛选出待分析缺陷区域;根据所述待分析缺陷区域的区域中心像素点与边缘像素点的连线上的像素点的灰度变化特征,结合相邻边缘像素点之间对应的灰度变化差异,获取所述待分析缺陷区域的每个所述边缘像素点的灰度变化参数;沿所述待分析缺陷区域的区域中心像素点与边缘像素点的连线方向,逐步加入像素点形成修正缺陷区域;根据所述修正缺陷区域与对应所述待分析缺陷区域之间的所述第二缺陷可能性的差异,结合所述灰度变化参数之间的差异,获取第三缺陷可能性;基于所述第三缺陷可能性对所述待分析缺陷区域进行扩展,获得光电子器件表面的最终缺陷区域;所述第一缺陷可能性的获取方法包括:在每个所述初始缺陷区域内,以每个像素点为中心建立预设邻域窗口;根据每个所述初始缺陷区域内所有的窗口中心像素点与对应的窗口非中心像素点的灰度值差异,获取每个所述初始缺陷区域的第一初始缺陷参数;其中,将所述预设邻域窗口内中心处的像素点称为窗口中心像素点,其他像素点称为窗口非中心像素点;窗口中心像素点与对应的窗口非中心像素点的灰度值差异与所述第一初始缺陷参数正相关;根据每个所述初始缺陷区域内像素点灰度值的波动特征,获取每个所述初始缺陷区域的第二初始缺陷参数;根据每个所述初始缺陷区域的所述第一初始缺陷参数和所述第二初始缺陷参数获取所述第一缺陷可能性;所述第一初始缺陷参数和所述第二初始缺陷参数均与所述第一缺陷可能性正相关;所述第二缺陷可能性的获取方法包括:获取每个所述疑似缺陷区域的每个边缘像素点到区域中心像素点的距离作为边界距离,根据每个所述疑似缺陷区域的所述边界距离的波动剧烈程度,获取所述第二缺陷可能性;所述边界距离的波动剧烈程度与所述第二缺陷可能性正相关;所述修正缺陷区域的获取方法包括:依次选择所述待分析缺陷区域的区域中心像素点与边缘像素点的连线作为目标连线,在所述目标连线的远离区域中心像素点的方向的直线上选取一个相邻像素点延长所述目标连线,获得所述修正缺陷区域;其中,每加入一个像素点后更新一次修正缺陷区域;每更新一次所述修正缺陷区域,同时更新一次所述第三缺陷可能性;所述修正缺陷区域与对应所述待分析缺陷区域之间的所述第二缺陷可能性的差异与所述第三缺陷可能性正相关;所述灰度变化参数之间的差异与所述第三缺陷可能性负相关;所述第三缺陷可能性还经过归一化处理;所述最终缺陷区域的获取方法包括:当所述第三缺陷可能性小于等于第三预设阈值时,去除最新选取的像素点,并排除对应的所述目标连线;当所有所述目标连线均被排除后,将每个所述待分析缺陷区域最后更新的所述修正缺陷区域作为所述待分析缺陷区域的所述最终缺陷区域。

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权利要求:

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