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申请/专利权人:常州亿晶光电科技有限公司
摘要:本发明涉及太阳能电池技术领域,具体涉及一种N型TBC双POLY电池及其制备方法。本发明通过涂覆、退火方式,在N型基底背面N区图形化区域形成磷浆层、掩膜层,在高温硼扩散的过程中,实现N区和非N区POLY的不同种类掺杂,实现背面双POLO结构。本方法不需要激光开槽,碱刻蚀过程简单且不会出现漏电的风险,而且N区硅片厚度不会减薄,不会影响电池的电流密度。采用本发明制备的电池具有更高的转换效率,同时工艺步骤更少,操作简单,有利于电池的大规模生产。
主权项:1.一种N型TBC双POLY电池的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:(1)N型基底双面粗抛后抛光;(2)任选一面作背面,沉积遂穿氧化层和非晶硅层;所述的非晶硅层为80-120nm;(3)在基底的背面N区图形化区域依次涂覆磷浆层、掩膜层,每次涂覆完后对所述的基底进行烘干和退火处理;所述退火温度为550-800℃;(4)对基底背面进行高温扩散,使非N区图形化区域中非晶硅层转化为掺硼的多晶硅层,N区图形化区域中的非晶硅层转化为掺磷的多晶硅层;(5)基底正面刻蚀、制绒,制绒中酸洗去除背面非N图形区的BSG层、N图形区残留的磷浆料和掩膜层;(6)基底双面沉积氧化铝膜;(7)基底双面沉积氮化硅膜;(8)使用激光在基底背面的N区进行图形化开模,去除所述N区的氧化铝膜和氮化硅膜;(9)在基底的背面进行丝网印刷,形成叉指状发射极,制得N型TBC单晶太阳能电池。
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权利要求:
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