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申请/专利权人:横店集团东磁股份有限公司
摘要:本发明涉及太阳能电池领域,公开了一种利用激光去除TBC太阳能电池硅片绕镀层的方法。本发明采用“三步法”激光处理+碱清洗方式来去除硅片正面及侧面的绕镀层,具有高效、负面影响小的优点,并且去绕镀过程中无需经过酸处理,更加环保以及成本低的特点。
主权项:1.一种利用激光去除TBC太阳能电池硅片绕镀层的方法,其特征在于包括:S1、选取正面及侧面具有绕镀层的TBC半成品硅片;S2、激光图形化开槽初步去除硅片背面p区和n区交界处的沉积层,使该区域硅片背面初步形成隔离区;S3、通过紫外飞秒激光、绿光皮秒激光和红外纳秒激光三步处理去除硅片正面绕镀层;S4、将多片S3所得硅片层状堆叠;S5、通过紫外飞秒激光、绿光皮秒激光和红外纳秒激光处理堆叠后硅片四个侧面的绕镀层,使硅片侧面的绕镀层被初步去除;S6、碱清洗制绒,彻底去除绕镀层。
全文数据:
权利要求:
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